10.07.2014
Das „Who is Who“ der Siliziumchemie kommt vom 3. bis 8. August 2014 an der Technischen Universität Berlin beim „17th International Symposium on Silicon Chemistry” (ISOS XVII) zusammen. Zu diesem Nukleationsportal für einen schnelleren Transfer von Ergebnissen aus der Grundlagenforschung in die Anwendung werden 600 Siliziumchemiker aus Forschung und Industrie erwartet. Die Themen reichen von der molekularen Grundlagenforschung über materialwissenschaftliche Neuerungen wie bioinspirierte Materialien bis hin zur Oberflächenchemie und Lösungsvorschlägen für eine nachhaltige chemische Energieumwandlung mit Hilfe von siliziumbasierten Katalysatoren. Die Tagung wird gemeinsam mit den „7th European Silicon Days“ veranstaltet. Kooperationspartner ist die GDCh.
Autor:
Dr. Renate Hoer
